STIMESI TRAINING COURSE PROGRAM

MEMSCAP : MUMPS (Multi-User MEMS) processes

Polytech’Nice-Sophia
Sophia Antipolis, France
June 2-5, 2009

Abstract
MEMSCAP provides access to three MEMS processes, described below, via the MUMPs® MPW service.

The PolyMUMPs™ process is based upon the deposition of the following layers onto a Si substrate: a nitride isolation layer, a polysilicon ground layer, two structural polysilicon layers, two sacrificial oxide release layers, and one metal layer for electrical connection and enhanced reflectivity.

SOIMUMPs™ utilizes a three mask, silicon-on-insulator (SOI) process based upon a starting wafer consisting of layer thicknesses 10 µm or 25um, 1 µm, and 400 µm, for the silicon, oxide, and substrate, respectively. The silicon layer may be patterned and etched down to the oxide to form mechanical structures, resistors and electrical routing. In addition, the substrate can be back-etched to the oxide, enabling the construction of through-hole structures.

MetalMUMPs™ employs electroplated nickel as the primary structural and interconnect material. In addition to this, doped polysilicon layers may be used to form resistors or further mechanical structures. Electrical isolation is achieved though the deposition of silicon nitride and oxide is employed as a sacrificial layer. Trench layers may be etched into the substrate so as to achieve additional thermal and electrical isolation. Gold plating of the nickel sidewalls may be employed if low contact resistance is desired.

Doc à telecharger : rubrique documentation.

publiée le 12 Février 2010

JNRDM 2010

MONTPELLIER 7-9 Juin 2010

Les JNRDM sont l’événement majeur annuel du Réseau Doctoral Européen Micro et Nano (RDEMN). Cette manifestation est ouverte à l’ensemble des doctorants de la communauté scientifique en Micro et Nano électronique, et commence depuis ces dernières années à élargir son rayonnement au niveau européen. Pour la 13ième édition, 150 participants sont attendus et les séances seront accessibles à tout public intéressé.

Les JNRDM offrent aux doctorants la possibilité d’échanger des idées nouvelles, d’élargir leur domaine de connaissances et de découvrir la diversité de leurs activités de recherche qu’elles soient académiques ou en partenariat avec la R&D industrielle (convention CIFRE ou autre contrat ANR). Cette animation est intégralement conduite par les doctorants ; elle permet à ceux-ci d’élargir leurs connaissances en confrontant leurs résultats dans un esprit d’ouverture. Par ailleurs, la recherche de post doc ou encore la recherche d’un premier emploi ne peuvent qu’en être facilitées de par la présence de nombreux industriels.

L’originalité des JNRDM réside dans le fait que cette manifestation est entièrement organisée par des doctorants. Ainsi cette édition sera-t-elle organisée par des doctorants issus des deux laboratoires de microélectronique de Montpellier que sont l’IES (Institut d’Electronique du Sud) et le LIRMM (Laboratoire d’Informatique, de Robotique et de Microélectronique de Montpellier).

Lien : http://www.jnrdm2010.fr

publiée le 12 Février 2010

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